Rond Wolfram Sputterend Doel voor van de het Wolframschijf van de Magnetron het Sputterende Deklaag Wolfram van het het Wolframdoel om Voorraad

Wolfram Sputterend Doel voor Magnetron Sputterende Deklaag

1. Beschrijving van Wolfram Sputterend Doel voor Magnetron Sputterende Deklaag:

De wolframlaag maakt deel uit thin-film transistors van TFT LCD-de schermen. Zij worden gebruikt wanneer de het groot-schermformaten, de uiterst hoge beeldduidelijkheid, en de geoptimaliseerde contrastverhoudingen worden vereist. De wolframdoelstellingen worden ook gebruikt in de micro-elektronicaindustrie, bijvoorbeeld om deklagen in frequentiefilters (de filters van de oppervlakte akoestische golf (ZAAG) te vormen, akoestische golffilters (BAW) ophopen). Andere die toepassingen voor wolframdoelstellingen omvatten verspreidingsbarrières van wolframnitride, leidersporen in micro-electronische componenten, en reactieve gesputterde transparante die lagen worden gemaakt van wolframoxyde worden gemaakt voor OLED-vertoningen en elektrochemische toepassingen.

In het magnetron het sputteren proces (PVD-proces), geeft het sputterende doel uiterst kleine metaaldeeltjes vrij die op het met een laag te bedekken materiaal deponeren (d.w.z. het substraat), vormt een dunne film. Dit deklaagproces is economisch en snel, waarin alle materialen aan de striktste kwaliteitsnormen moeten voldoen.

2. Grootte en Tolerantie van Wolfram Sputterend Doel voor Magnetron Sputterende Deklaag:

4. Toepassing van Wolfram Sputterend Doel voor Magnetron Sputterende Deklaag:

Worden de wolfram sputterende doelstellingen hoofdzakelijk gebruikt in de elektronika en informatie-industrieën, zoals geïntegreerde schakelingen, informatieopslag, liquide crystale displays, lasergeheugen, elektronische controleapparaten, enz. zij kunnen ook op het gebied van glasdeklaag worden gebruikt; zij kunnen ook in slijtvaste materialen, weerstandscorrosie op hoge temperatuur, high-end decoratieve producten en andere industrieën worden gebruikt.