De Producten Roterend Sputterend Doel van het buismolybdeen voor van de het Molybdeenbuis van het Magnetrondoel van het het Molybdeendoel de Deklaagdoel

Molybdeen Roterend Sputterend Doel voor Magnetrondoel

1. Beschrijving van Molybdeen Roterend Sputterend Doel voor Magnetrondoel:

Het molybdeen roterende sputterende doel is een magnetrondoel, dat gewoonlijk in een cilindrische vorm met een stationaire binnen magneet wordt gemaakt, die bij een langzame snelheid tijdens verrichting zal roteren. De gemeenschappelijke productspecificaties zijn als volgt: Identiteitskaart-133/OD-157x 3191mm; Identiteitskaart-133/od-157 X 3855mm; Identiteitskaart-160/OD-180x1800mm. Wij bieden molybdeen roterende doelstellingen in diverse regelmatige grootte aan, en kunnen ook volgens klant-specifieke eisen worden machinaal bewerkt.

De deklaagmaterialen in de vorm van de sputterende doelstellingen van de molybdeenrotatie worden gebruikt om molybdeenlagen voor de contacten van CIGS terug te veroorzaken of dun transistors voor de vlakke paneelschermen (TFT LCD, OLED) te filmen. De monolithische roterende doelstellingen hebben geen voering en van 100%-deklaagmateriaal daarom geconstrueerd. Deze doelstellingen kunnen het sputteren prestaties beduidend verbeteren terwijl het toelaten van hogere productie. Aldus, drukt de verhoogde materiële opbrengst ook de productiekosten in het deklaagproces in vergelijking met roterende doelstellingen in entrepot.

2. Eigenschappen van Molybdeen Roterend Sputterend Doel voor Magnetrondoel:

Het heeft goede prestatie-eisen, zoals de gebruikstemperatuur van molybdeen is het roterende doel 1800°C, is de hoogste gebruikstemperatuur 2310°C, is de dichtheid 10,2 g/cm3, en de zuiverheid is 99,95%, zodat wordt het vaak gebruikt in de voorbereiding van zonnecellen, architecturaal glas, Automobielglas, halfgeleiders, vlak-paneeltvs, enz.

3. Voordeel van Molybdeen Roterend Sputterend Doel voor Magnetrondoel:

Is het molybdeen roterende doel een methode om de bezettingsgraad van molybdeen sputterend doel te verbeteren. Vergeleken met het molybdeen vlakdoel, toont het ontwerp van de structuur van het molybdeen roterende doel de wezenlijke voordelen van het molybdeen sputterende doel. Het doelleven wordt gedefinieerd als het sputteren van machtstijden sputterend tijd, of de totale dikte van materiaal die op het substraat kunnen worden gedeponeerd. De verandering in meetkunde en ontwerp van molybdeen vlak doel aan heeft molybdeen roterend doel de bezettingsgraad van het doel verhoogd, en de bezettingsgraad kan van 30% tot 50% van molybdeen vlak doel worden verhoogd > 80% van molybdeen roterend doel. Bovendien als het leven van het doelmateriaal door de het sputteren macht tegen de het sputteren tijd te vermenigvuldigen wordt gemeten, is het leven van het molybdeen roterende doel 5 keer langer dan dat van het molybdeen vlakke doel. Aangezien het molybdeen roterende doel onophoudelijk tijdens het het sputteren proces roteert, zal er geen zwaar deposito op zijn oppervlakte zijn.

4. Chemische Inhoud van Molybdeen Roterend Sputterend Doel voor Magnetrondoel:

Gelieve te klikken onder knoop voor leren meer onze producten.