Alle producten
-
DavidGoed bedrijf met de aardige dienst en hoog - kwaliteit en hoge reputatie. Één van onze betrouwbare leverancier, goederen is geleverd in time en aardig pakket. -
John MorrisMateriële deskundigen, strenge verwerking, geschikte ontdekking van problemen in ontwerptekeningen en communicatie met ons, de nadenkende dienst, redelijke prijs en goede kwaliteit, geloof ik wij meer samenwerking zullen hebben. -
JorgeDank u voor uw goede naverkoopdienst. De uitstekende deskundigheid en de technische ondersteuning hielpen me een. -
Petradoor zeer goede mededeling alle opgeloste problemen, tevreden met mijn aankoop -
Adrian HayterDe gekochte goederen dit keer zijn zeer tevreden, is de kwaliteit zeer goed, en de oppervlaktebehandeling is zeer goed. Ik geloof wij tot de volgende orde spoedig opdracht zullen geven.
Contactpersoon :
Nicole
Telefoonnummer :
13186382597
whatsapp :
+8613186382597
RO5200 Ta1 Tantalum Roterende Doel Tantalumbuis Doel 100 mm Voor CVD PVD
Contacteer me voor vrije steekproeven en coupons.
whatsapp:0086 18588475571
WeChat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Als u om het even welke zorg hebt, verstrekken wij de online-Help van 24 uur.
xProductdetails
| Naam | Tantalum roterend doel | Graad | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
|---|---|---|---|
| Dichtheid | 160,68 g/cm3 | Atomair gewicht | 180.94788 |
| Sputteringmethode | D.C. | Warmtegeleidbaarheid | 57 W/m.K |
| Markeren | CVD Tantalum Roterende Doelstelling,Ta1 Tantaaldoel,Tantaalbuis Doel 100 mm |
||
Productomschrijving
Productinformatie:
Tantaalbuisdoel is een buisvormig tantalumdoel, ook bekend als tantalumroterend doel.
| Naam | Tantaal roterend doel Tantaalbuis doel |
| Zuiverheid | ≥ 99,95% |
| Graad | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
| Dichtheid | 160,68 g/cm3 |
| Atomair gewicht | 180.94788 |
| Sputteringmethode | D.C. |
| Thermische geleidbaarheid | 57 W/m.K |
| Koëfficiënt van de thermische uitbreiding | 6.3 x 10-6 /K |
| Grootte | OD: 20~300 mm Wanddikte: ≥ 0,5 mm |
Toepassing van Ta Rotating Target:
Tantalbuisdoel is een hoogzuivere tantalum grondstof voor sputterdepositie, die kan worden gebruikt in halfgeleiders,chemische stofafzetting (CVD) en fysieke stofafzetting (PVD) voor beeldschermen en optische toepassingenDe details zijn als volgt:
- voor halfgeleiders;
- Chemische dampafzetting (CVD) -displays;
-Physical Vapor Deposition (PVD) weergeven;
- Optische toepassingen.
Opmerking:Als u het gewenste doel niet kunt vinden, neem dan rechtstreeks contact met ons op.
Geadviseerde Producten